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半導體、光伏電池生產過程中，擴散、LPCVD、PECVD、MOCVD、刻蝕、外延等工序會產生 Cl?、HCl、HF、NH?等強腐蝕性酸堿廢氣，需專業高效治理。天得一自主研發水洗設備（Wet Scrubber），通過六級及以上多級水洗結構，讓廢氣與水充分接觸吸收，廢氣凈化效率 99% 以上。設備可單獨處理泛半導體行業酸堿廢氣，也可作為后端處理單元，高效去除燃燒處理后產生的 SiO?、HF 等二次污染物。

1. 高效：采用六級噴淋水洗室+一級綜合除霧室，凈化效率可高達99%；
2. 自動化：設備配置西門子PLC人機界面，自動/手動兩種運行模式；
3. 節能低碳運行：設備運行電耗低、廢水量少，符合綠色低碳的運營目標；
4. 耐腐蝕：采用強化防腐設計，具有優良的耐腐蝕性能；
5. 智控孿生賦能：融合數字孿生與集中智制優勢，通過感知矩陣、多維交互、場景化智控等技術，實現設備全生命周期深度賦能。

適用于半導體與光伏電池生產的擴散（Diffusion）、低壓化學氣相沉積（LPCVD）、等離子增強型化學氣相沉積（PECVD）、金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）、刻蝕（Etch）、外延（EPI）等關鍵工序產生的廢氣治理。